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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：本发明提供一种向基板照射光并描绘图案的描绘装置，在本发明的描绘装置1的描绘头罩5中，供气口53设置于在水平方向上与投影光学系统45相向的位置。另外，从供气部6向描绘头罩5的内部供给的气体通过供气口53。排气口54在沿描绘头41的光轴J1的方向上，设置于比空间光调制部44更靠照明光学系统43侧的位置。从供气口53向描绘头罩5的内部供给的气体从排气口54排出。由此，既能够抑制描绘装置1的装置结构的复杂化，又能够抑制热量在描绘头罩5的上部充斥于内部。
主权项：1.一种描绘装置，向基板照射光来描绘图案，其中，具有：载物台，保持基板；描绘头，向所述基板的上表面照射经调制的光；支撑部，在所述载物台的上方支撑所述描绘头；扫描机构，在与所述基板的所述上表面平行的扫描方向上，使所述载物台相对于所述描绘头相对地移动；以及供气部，向所述描绘头的内部供给气体，所述描绘头具有：空间光调制部，调制并射出来自光源的光；照明光学系统，将来自所述光源的光向所述空间光调制部引导；投影光学系统，将来自所述空间光调制部的光向所述基板的所述上表面引导；以及描绘头罩，在内部容纳所述空间光调制部、所述照明光学系统和所述投影光学系统，所述描绘头罩具有：供气口，设置于在水平方向上与所述投影光学系统相向的位置，并供从所述供气部向所述描绘头罩的内部供给的气体通过；以及排气口，在沿所述描绘头的光轴的方向上，设置于比所述空间光调制部更靠所述照明光学系统侧的位置，并供已从所述供气口供给到所述描绘头罩的内部的气体排出。
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