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一种通孔电镀铜液和通孔电镀铜的方法 

申请/专利权人:上海天承化学有限公司

申请日:2024-03-26

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118256967A

主分类号:C25D3/38

分类号:C25D3/38;C25D5/02;C25D5/48

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明涉及一种通孔电镀铜液和通孔电镀铜的方法,具体涉及电镀铜领域,镀铜液包括:五水硫酸铜60‑100gL,无机酸210‑250gL,氯离子50‑80mgL,加速剂0.5‑1mgL,载剂0.05‑1.2gL,抑制剂5‑10mgL,所述抑制剂包括支链聚酰胺嵌段共聚物。本发明提供的通孔电镀铜液,利用各组分间的协同效果,使得抑制剂在通孔口处的吸附量大于通孔内的吸附量,由于通孔中心抑制剂浓度低,铜镀层沉积速率大于孔口内壁及板面的沉积速率,从而在通孔内形成≥25μm的铜镀层,而不显著增加板面铜镀层厚度,进而针对厚径比≥10:1的板孔进行电镀铜时TP值可以达到80%以上。

主权项:1.一种通孔电镀铜液,其特征在于,所述通孔电镀铜液包括: 所述抑制剂包括支链聚酰胺嵌段共聚物。

全文数据:

权利要求:

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