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申请/专利权人：合肥清溢光电有限公司
摘要：本发明涉及掩膜版缺陷检测，具体涉及用于半色调掩膜版HTM的缺陷标准样片及缺陷检测方法，包括表征待检测图形区域的第一图形单粒，以及表征缺陷图形区域的第二图形单粒，第一图形单粒与第二图形单粒对称设置，且第一图形单粒与第二图形单粒包含的图形主体完全一致，第二图形单粒内的缺陷图形包含不同种类、不同规格的缺陷；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的无法设计出能够适配检查机检出精度，且能够同时进行DietoDie检查和DietoDB检查的用于半色调掩膜版HTM的缺陷标准样片的缺陷。
主权项：1.用于半色调掩膜版HTM的缺陷标准样片，其特征在于：包括表征待检测图形区域的第一图形单粒，以及表征缺陷图形区域的第二图形单粒，所述第一图形单粒与第二图形单粒对称设置，且所述第一图形单粒与第二图形单粒包含的图形主体完全一致，所述第二图形单粒内的缺陷图形包含不同种类、不同规格的缺陷。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥清溢光电有限公司 用于半色调掩膜版HTM的缺陷标准样片及缺陷检测方法
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