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一种磁控溅射用BNT靶材及利用热压法制备BNT靶材的方法 

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申请/专利权人:西安交通大学

摘要:一种磁控溅射用BNT靶材及利用热压法制备BNT靶材的方法,其中,靶材分子式为Bi0.45~0.55Na0.45~0.55TiO3,以Bi2O3、Na2CO3和TiO2为原料,各原料的摩尔质量比为:Bi2O3:Na2CO3:TiO2=104.841~128.139:23.847~29.147:79.87;利用热压法制备磁控溅射用BNT靶材的方法,通过在烧结过程中施加一定压力,加速粉末颗粒的接触、扩散和流动等传质过程,能够降低烧结温度,有效控制Bi0.5Na0.5TiO3靶材中易挥发成分的组分变化,同时缩短烧结时间,节省靶材制备的时间成本,易于获得气孔率低、致密度达99%以上的Bi0.5Na0.5TiO3靶材;另外,利用模具成型机制,HP制备靶材的收缩率为0%,实现了大尺寸靶材尺寸的精确控制;制备工艺简单,制备的大尺寸钛酸铋钠陶瓷靶材致密无开裂。

主权项:1.一种磁控溅射用BNT靶材,其特征在于,分子式为Bi0.45~0.55Na0.45~0.55TiO3,以Bi2O3、Na2CO3和TiO2为原料,各原料的摩尔质量比为:Bi2O3:Na2CO3:TiO2=104.841~128.139:23.847~29.147:79.87。

全文数据:

权利要求:

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