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申请/专利权人：清华大学
摘要：本申请提供了一种平面适形曲面的方法及上颚贴片。本申请的平面适形曲面的方法能够利用单一连续的平面来适形目标曲面。也就是说能够在保证单一平面的连续性的情况下适形目标曲面，由此有利于将电子技术例如电极应用于具有拟合曲面的产品。本申请的上颚贴片可以具有采用平面适形曲面的方法形成的拟合曲面，使得该上颚贴片具有与目标体的上颚的曲面拟合的形状。这样，由于能够通过单一连续的平面来适形曲面，因而可以在上颚贴片的处于平面形态的平面中间体上就设置例如电极等电子器件。
主权项：1.一种平面适形曲面的方法，其特征在于，包括：顶点选择步骤S10，其中对目标曲面TS进行三角网格化处理得到所述目标曲面TS的三角网格模型，基于所述三角网格模型中的相邻三角片的公共顶点的平均曲率，选择一部分所述公共顶点作为备选点，将所有所述备选点划分到不同的点连通域中，在每一个所述点连通域中选择一个备选点作为顶点；母线及顶角确认步骤S20，其中以每个所述点连通域的穿过对应的所述顶点的中心连接线作为母线，根据所述三角网格模型中位于所述点连通域两侧的曲率差计算得到顶角；剪裁步骤S30，其中将所述三角网格模型映射为平面网格模型，使得所述三角网格模型的所有公共顶点与所述平面网格模型的平面参数域中的点一一对应，并且进一步根据所述母线和所述顶角确定对应所述顶点的扇形区域，根据每个所述扇形区域的轮廓从与所述平面网格模型对应的平面剪裁出相应的缺口部，从而得到适形平面OP；以及接合步骤S40，其中将所述适形平面OP的与所述母线对应的边缘接合在一起形成拟合所述目标曲面TS的曲面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 清华大学 平面适形曲面的方法及上颚贴片
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