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申请/专利权人：河北工业大学
摘要：本发明为去除速率选择比可调的高稳定性STICMP抛光液，用于pH＝2‑6的酸性条件下的STICMP中，所述抛光液按质量百分比计量包含如下：CeO2磨料：0.1wt％‑5wt％；氨基酸：0.1wt％‑4wt％；多元醇：0.5wt％‑6wt％；聚乙烯醇：0.01wt％‑1wt％；pH调节剂；余量为去离子水；所述聚乙烯醇的分子量为1万‑10万；所述氨基酸为：甘氨酸、丙氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、精氨酸、脯氨酸、吡啶甲酸、烟酸或它们衍生物中的一种或几种；所述多元醇为：D‑山梨糖醇、甘露糖醇、乳糖醇、麦芽糖醇、麦芽三糖醇、木糖醇、卫矛醇、或它们衍生物中的一种或几种。抛光液在高去除速率选择比的基础上，能够在112个月内保证抛光速率的稳定。
主权项：1.一种去除速率选择比可调的高稳定性STICMP抛光液，其特征为：用于pH＝2-6的酸性条件下的STICMP中，具有TEOSSi3N4去除速率选择比为30-80范围，抛光液在高去除速率选择比的基础上，能够在12个月内保证抛光速率的稳定；所述抛光液按质量百分比计量包含如下：CeO2磨料：0.1wt％-5wt％；氨基酸：0.1wt％-4wt％；多元醇：0.5wt％-6wt％；聚乙烯醇：0.01wt％-1wt％；pH调节剂；余量为去离子水；所述聚乙烯醇的分子量为1万-10万；所述氨基酸为：甘氨酸、丙氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、精氨酸、脯氨酸、吡啶甲酸、烟酸或它们衍生物中的一种或几种；所述多元醇为：D-山梨糖醇、甘露糖醇、乳糖醇、麦芽糖醇、麦芽三糖醇、木糖醇、卫矛醇、或它们衍生物中的一种或几种。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 河北工业大学 去除速率选择比可调的高稳定性STI CMP抛光液
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