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龙图腾网恭喜江苏吉莱微电子股份有限公司申请的专利一种低电容保护器件及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112331647B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011367706.3，技术领域涉及：H10D89/60；该发明授权一种低电容保护器件及其制作方法是由许志峰;宋文龙;张鹏;刘志雄设计研发完成，并于2020-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种低电容保护器件及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低电容保护器件及其制作方法，该器件包括P型衬底材料（101），P型衬底材料（101）上设置P型外延层（102）；P型外延层（102）上设置P型埋层（103）和介质层（104）；P型埋层（103）上设置N型扩散区（105）；介质层（104）和N型扩散区（105）上设置隔离介质层（106）；隔离介质层（106）两侧分别设置金属区一（107）、金属区二（108）。本发明能够降低电容，得到更低的箝位电压。

本发明授权一种低电容保护器件及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种低电容保护器件，包括P型衬底材料（101），P型衬底材料（101）上设置P型外延层（102）；P型外延层（102）上设置P型埋层（103）和介质层（104）；介质层（104）带有负电荷；P型埋层（103）上设置N型扩散区（105）；介质层（104）和N型扩散区（105）相邻；介质层（104）和N型扩散区（105）上设置隔离介质层（106）；隔离介质层（106）盖在P型外延层（102）、介质层（104）和N型扩散区（105）上；隔离介质层（106）两侧分别设置金属区一（107）、金属区二（108）；金属区一（107）、金属区二（108）分别与一个N型扩散区（105）接触；P型埋层（103）的数量是两个，介质层（104）的数量是两个，N型扩散区（105）的数量是两个；每一个P型埋层（103）上设置一个N型扩散区（105）；每一个N型扩散区（105）有一个介质层（104）与之相邻。

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