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龙图腾网恭喜东北大学申请的专利粒径小于1μm高分散球形铱粉及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116117155B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310042626.8，技术领域涉及：B22F9/24；该发明授权粒径小于1μm高分散球形铱粉及其制备方法和应用是由刘绍宏;唐诗粮;王伟设计研发完成，并于2023-01-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本粒径小于1μm高分散球形铱粉及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了粒径小于1μm高分散球形铱粉及其制备方法和应用，解决了高分散、粒径均匀细小且粒径可控的球形铱粉制备难题。所述铱粉制备时，通过调控溶液中硫酸根离子与铱离子摩尔比得到粒径可控的高分散球形前驱体沉淀粉体，再将前驱体沉淀粉体在氢气气氛下煅烧得到粒径小于1μm高分散球形铱粉。本发明技术新颖，且制备方法能耗低、环境友好、工艺简单，可实现粒径小于1μm高分散球形铱粉的大批量大规模制备，用该方法制备的材料在半导体溅射靶材领域有广阔的应用前景。

本发明授权粒径小于1μm高分散球形铱粉及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.粒径小于1μm高分散球形铱粉的制备方法，其特征在于，所述铱粉包括I类铱粉、II类铱粉、III类铱粉、Ⅳ类铱粉、Ⅴ类铱粉：所述I类铱粉制备时，反应溶液中硫酸根离子与铱离子摩尔比为0.5-1，通过尿素均匀沉淀工艺制得高分散球形前驱体沉淀粉体，前驱体沉淀粉体粒径范围为0.1-0.15μm；所述II类铱粉制备时，反应溶液中硫酸根离子与铱离子摩尔比为1-1.5，通过尿素均匀沉淀工艺制得高分散球形前驱体沉淀粉体，前驱体沉淀粉体粒径范围为0.1-0.2μm；所述III类铱粉制备时，反应溶液中硫酸根离子与铱离子摩尔比为1.5-2，通过尿素均匀沉淀工艺制得高分散球形前驱体沉淀粉体，前驱体沉淀粉体粒径范围为0.1-0.25μm；所述Ⅳ类铱粉制备时，反应溶液中硫酸根离子与铱离子摩尔比为2-5，通过尿素均匀沉淀工艺制得高分散球形前驱体沉淀粉体，前驱体沉淀粉体粒径范围为0.2-0.5μm；所述Ⅴ类铱粉制备时，反应溶液中硫酸根离子与铱离子摩尔比为5-10，通过尿素均匀沉淀工艺制得高分散球形前驱体沉淀粉体，前驱体沉淀粉体粒径范围为0.24-0.6μm；上述高分散球形前驱体沉淀粉体分别在氢气气氛中高温煅烧得到粒径小于1μm高分散球形铱粉。

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