恭喜湖北科技学院张亚平获国家专利权
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龙图腾网恭喜湖北科技学院申请的专利一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112526797B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011504143.8，技术领域涉及：G02F3/02；该发明授权一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构是由张亚平设计研发完成，并于2020-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构，属于全光通信技术领域。包括若干个周期复合单元，每个复合单元包括第一电介质层、第二电介质层和单层石墨烯，复合单元的排列方式为：由复合结构的入射方向一侧至另一侧依次设置单层石墨烯、第一电介质层、单层石墨烯、第二电介质层；第一电介质层的厚度小于第二电介质层；出射方一侧为一层石墨烯。本发明具有共振态的共振性强等优点。
本发明授权一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构在权利要求书中公布了：1.一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构，其特征在于，包括若干个周期复合单元，所述复合单元包括第一电介质层A、第二电介质层B和单层石墨烯g，所述复合单元的排列方式为：由复合结构的入射方向一侧至另一侧依次设置单层石墨烯g、第一电介质层A、单层石墨烯g、第二电介质层B；所述第一电介质层A的厚度小于第二电介质层B；所述复合单元的出射方一侧为石墨烯g；随着输入波长的增加，透射谱上有很多的共振峰，对应的是共振态，共振态的模场分布会集中在电介质的分界面上，因此光场具有局域性，单层石墨烯g正好位于第一电介质层A或第二电介质层B的分界面上，利用该结构的共振态来增强石墨烯的非线性效应，得到低阈值的光学双稳态；所述第一电介质层A和第二电介质层B均为二氧化硅材质的透光材料制成；所述第二电介质层B的厚度为第一电介质层A的厚度的四倍。
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