恭喜瑞声开泰科技(武汉)有限公司;瑞声声学科技(深圳)有限公司程诗阳获国家专利权
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龙图腾网恭喜瑞声开泰科技(武汉)有限公司;瑞声声学科技(深圳)有限公司申请的专利扬声器及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113938803B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111145119.4，技术领域涉及：H04R9/06；该发明授权扬声器及其制备方法是由程诗阳;但强;周一苇;沈宇;李杨设计研发完成，并于2021-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本扬声器及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种扬声器的制备方法，以及由该制备方法得到的扬声器。其中，扬声器包括具有收容腔的底座以及收容于所述收容腔内的振动发声组件，所述振动发声组件包括跨接在所述底座内侧壁的传动振膜、叠设在所述传动振膜的第一振膜、以及叠设在所述传动振膜以驱动所述传动振膜和所述第一振膜振动发声的驱动器；所述传动振膜与所述第一振膜的刚度不同。本发明的扬声器架构实现了将驱动结构和位移结构的深度解耦，驱动器只负责产生面内应力，自身不发生面外翘曲，使扬声器的振动极大程度的摆脱驱动器自身性能的影响，很容易获得全频段高水平的声压输出。
本发明授权扬声器及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种扬声器的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：提供SOI晶圆，对所述SOI晶圆的顶层硅膜进行刻蚀，以形成第一振膜；在所述第一振膜和所述SOI晶圆的埋氧层上形成底电极；在所述底电极上形成压电薄膜；在所述压电薄膜上形成顶电极；分别对所述底电极、所述压电薄膜以及所述顶电极进行刻蚀，以形成驱动器；在所述第一振膜、所述驱动器以及所述埋氧层上沉积高聚物，以形成传动振膜，所述传动振膜与所述第一振膜的刚度不同；对所述SOI晶圆的底层硅膜进行空腔刻蚀，以使所述埋氧层部分暴露于所述空腔；释放暴露于所述空腔中的埋氧层，以形成所述扬声器。
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