恭喜东华隆股份有限公司田辺崇臣获国家专利权
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龙图腾网恭喜东华隆股份有限公司申请的专利皮膜形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116648312B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180085799.7，技术领域涉及：C23F11/00；该发明授权皮膜形成方法是由田辺崇臣;河内诚一郎;桧山耕作设计研发完成，并于2021-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本皮膜形成方法在说明书摘要公布了：本发明的皮膜形成方法包括：第一工序，在金属基材2的表面2a涂布含有聚硅氮烷的第一溶液，并加热所述第一溶液，而在所述金属基材2的表面2a形成第一皮膜1；以及第二工序，在所述第一皮膜1的表面1a涂布含有聚硅氮烷的第二溶液，以较所述第一工序的加热温度低的温度进行加热，而在所述第一皮膜1的表面1a形成第二皮膜3，所述第一皮膜的密度小于2.00gcm3，所述第二皮膜的密度为2.00gcm3以上。
本发明授权皮膜形成方法在权利要求书中公布了：1.一种皮膜形成方法，包括：第一工序，在金属基材的表面涂布仅含有全氢聚硅氮烷作为聚硅氮烷的第一溶液，并较所述第一溶液中聚硅氮烷的二氧化硅转化温度低的温度加热所述第一溶液，而在所述金属基材的表面形成第一皮膜；以及第二工序，在所述第一皮膜的表面涂布仅含有全氢聚硅氮烷作为聚硅氮烷的第二溶液，并以较所述第一工序的加热温度低且所述第二溶液中聚硅氮烷的二氧化硅转化温度以上的温度进行加热，而在所述第一皮膜的表面形成第二皮膜，较所述第一工序的加热温度低的温度加热形成的所述第二皮膜的密度，较所述第一皮膜的密度高，所述第一皮膜的密度小于2.00gcm3，所述第二皮膜的密度为2.00gcm3以上。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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