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龙图腾网恭喜中国船舶重工集团公司第七二五研究所申请的专利一种激光预处理工艺、高结合性能陶瓷涂层及制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116121685B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211572189.2，技术领域涉及：C23C4/02；该发明授权一种激光预处理工艺、高结合性能陶瓷涂层及制备工艺是由王喆;黄磊;李龙;许康威;武笑宇;高源设计研发完成，并于2022-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种激光预处理工艺、高结合性能陶瓷涂层及制备工艺在说明书摘要公布了：本发明提供一种激光预处理工艺、高结合性能陶瓷涂层及制备工艺，激光预处理工艺包括以下步骤：S1、采用激光一次清洗工艺对基体表面进行清洗；S2、采用激光刻蚀工艺对清洗后基体表面进行刻蚀；S3、采用激光二次清洗工艺对刻蚀后基体表面进行清洗。与现有技术相比，本发明所述的一种激光预处理工艺，基体表面经过激光一次清洗工艺、激光刻蚀工艺和激光二次清洗工艺进行预处理，激光一次清洗工艺、激光刻蚀工艺和激光二次清洗工艺相互关联，协同作用，一方面，能够更有效的提升预处理后基体的表面积；另一方面，能够有效清除激光刻蚀后的表面氧化层，在这两方面的共同作用下，大大提高了经过激光预处理工艺后的基体与陶瓷涂层的结合性能。

本发明授权一种激光预处理工艺、高结合性能陶瓷涂层及制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种激光预处理工艺，其特征在于，所述激光预处理工艺用于制备高结合性能陶瓷涂层，所述激光预处理工艺包括以下步骤：S1、采用激光一次清洗工艺对基体表面进行清洗；S2、采用激光刻蚀工艺对清洗后基体表面进行刻蚀；S3、采用激光二次清洗工艺对刻蚀后基体表面进行清洗；在步骤S1中，所述激光一次清洗工艺的功率为10~20W、频率为20kHz、扫描速度为1000mms、扫描次数为2次，所述激光一次清洗工艺的扫描图案为第一单线阵列，第一单线阵列的阵列间隔为0.01mm；在步骤S2中，所述激光刻蚀工艺包括以下步骤：S21、激光一次刻蚀工艺；S22、激光二次刻蚀工艺；S23、激光三次刻蚀工艺；在步骤S21中，所述激光一次刻蚀工艺的功率为50~60W、频率为20kHz、扫描速度为200mms、扫描次数为2~4次，所述激光一次刻蚀工艺的扫描图案为第一三线组合阵列，所述第一三线组合阵列的三线间隔为0.02mm，所述第一三线组合阵列的阵列间隔为0.08~0.14mm，所述第一三线组合阵列与所述第一单线阵列垂直；在步骤S22中，所述激光二次刻蚀工艺的功率为40~60W、频率为20kHz、扫描速度为1000mms、扫描次数为2次，所述激光二次刻蚀工艺的扫描图案为第二三线组合阵列，所述第二三线组合阵列的三线间隔为0.02mm，所述第二三线组合阵列的阵列间隔为0.08~0.14mm，所述第二三线组合阵列与所述第一单线阵列垂直；在步骤S23中，所述激光三次刻蚀工艺的功率为40W、频率为20kHz、扫描速度为1000mms、扫描次数为2次，所述激光三次刻蚀工艺的扫描图案为第三三线组合阵列，所述第三三线组合阵列的三线间隔0.02mm，所述第三三线组合阵列的阵列间隔为0.08~0.14mm，所述第三三线组合阵列与所述第一单线阵列的垂直；在步骤S3中，所述激光二次清洗工艺的功率为10~20W、频率为20kHz、扫描速度为1000mms、扫描次数为2次，所述激光二次清洗工艺的扫描图案为第二单线阵列，所述第二单线阵列与所述第一三线组合阵列、第二三线组合阵列、第三三线组合阵列垂直，所述第二单线阵列的阵列间隔为0.01mm。

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