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龙图腾网恭喜广东中旺自动化技术有限公司申请的专利基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118392797B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410385965.0，技术领域涉及：G01N21/21；该发明授权基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法是由王健;彭立华;郑春平;杨俊;周莉萍设计研发完成，并于2024-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，首先建立一个包含透明基底背反射的非相干部分叠加数学模型IPS，用以准确描述基底前反射和未知背反射的光学叠加效应；建立或采购一个角分辨椭偏测量装置ARE及相应的椭偏参数角谱ARS快速获取方法；利用已知厚度的标准透明平板标定ARE测量参考图像及其IPS模型背反射修正函数；最后利用已标定的IPS‑ARE系统快速测量透明基底薄膜样品的ARS，进而对薄膜样品折射率、厚度及基底厚度等属性参数完成拟合计算表征；本发明解决了常规椭偏测量方法透明基底薄膜光学建模复杂、测量操作复杂、测量误差显著的难题，可应用于LED面板、封装薄膜等先进电子产品的批量化生产在线检。

本发明授权基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法在权利要求书中公布了：1.基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、建立包含背反射的非相干部分叠加模型IPS，修正透明基底背反射的影响，所述非相干部分叠加模型IPS为：Rt＝R012+fhT012R20I-fhR210R20-1T210；其中：R012,T012,R210,T210以及R20分别为基底上薄膜透反射系数以及基底背面边界反射系数的相干矩阵；I是单位阵；fh是描述背反射光部分叠加效应受入射角、系统孔径、基底厚度及折射率影响的修正函数；S2、建立角分辨椭偏测量装置ARE及相应的角分辨椭偏参数光谱ARS快速获取方法，其具体步骤为：S21、ARE装置由偏振发生器、非偏振分束器、物镜、偏振分析器、成像透镜组以及面阵相机组成，其中：成像透镜组由第一透镜和第二透镜组成，其前后焦面分别与物镜的后焦面BFP和面阵相机面重合；由偏振发生器调制的偏振光经过物镜以不同入射角射入样品并反射，不同入射角的光束汇聚于物镜BFP不同空间位置；物镜BFP图像经过偏振发生器调制，由成像透镜组成像在面阵相机上；S22、以标准样品BFP图像为参考计算待测薄膜BFP反射率图像，进一步对反射率图像做傅里叶变换，快速提取待测薄膜的穆勒矩阵元素ARS；S3、利用厚度已知的标准透明平板标定ARE测量参考图像及IPS背反射修正函数，即利用厚度已知透明平板样品，获取ARE装置BFP参考图像，并计算对应厚度样品IPS模型的修正函数角频率，并利用多项式拟合建立修正函数角频率与基底厚度间的数学关系，实现IPS模型背反射修正函数的标定；S4、利用已标定的IPS-ARE系统测量透明基底薄膜的ARS，进而拟合表征薄膜光学和几何参数及其基底厚度，利用ARE装置快速获取透明基底薄膜的BFP反射率图像，快速获取样品的椭偏参数ME，将其同基于IPS模型的透明基底薄膜理论椭偏参数MS相匹配，获取薄膜光学和几何参数以及基底厚度，再利用非线性回归算法匹配IPS模型的MS和测量的ME，直接计算透明基底薄膜光学和几何参数以及基底厚度，最后通过计算基底上薄膜光学和几何参数以及修正函数的角频率，再由角频率与基底厚度线性关系获取基底厚度。

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