恭喜广州华星光电半导体显示技术有限公司蒙艳红获国家专利权
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龙图腾网恭喜广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利阵列基板和显示面板获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114171604B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111501303.8,技术领域涉及:H10D30/67;该发明授权阵列基板和显示面板是由蒙艳红设计研发完成,并于2021-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板和显示面板在说明书摘要公布了:本申请实施例公开了一种阵列基板和显示面板,包括:基板、薄膜晶体管,所述薄膜晶体管设置在所述基板上,所述薄膜晶体管包括有源层,以及遮光层,所述遮光层设置在所述基板上,所述遮光层遮挡所述有源层,所述遮光层的材料包括硅半导体材料;采用遮光层遮蔽有源层,可以大大提高薄膜晶体管的光稳定性,延长薄膜晶体管的使用寿命。
本发明授权阵列基板和显示面板在权利要求书中公布了:1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板;薄膜晶体管,所述薄膜晶体管设置在所述基板上;所述薄膜晶体管包括有源层,以及遮光层,所述遮光层设置在所述基板上;所述遮光层遮挡所述有源层;所述遮光层的材料包括硅半导体材料;所述薄膜晶体管还包括与所述有源层异层设置的栅极,所述有源层设置在所述栅极上;所述遮光层与所述有源层异层设置,且所述遮光层设置在所述有源层的上方;所述阵列基板还包括第一钝化层、色阻和第二钝化层;所述薄膜晶体管还包括栅极绝缘层、源极和漏极;所述栅极绝缘层设置在所述栅极和所述有源层之间;所述源极和所述漏极同层设置且连接在所述有源层上;所述第一钝化层覆盖所述源极、所述漏极、所述栅极绝缘层和所述有源层;所述色阻设置在所述第一钝化层上,且所述色阻的一部分覆盖所述第一钝化层的与所述有源层对应的一部分;所述第二钝化层设置在所述色阻上;所述遮光层设置在所述第二钝化层上;所述遮光层的材料包括非晶硅。
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