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龙图腾网恭喜中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利一种等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113410113B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010187524.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种等离子体处理装置是由陈煌琳;吴狄;毛杰设计研发完成，并于2020-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种等离子体处理装置，包括处理模块及前端模块，处理模块包括反应腔、设置在反应腔上端口的反应腔窗体、盖设于反应腔窗体上的反应腔盖体，反应腔盖体与反应腔窗体之间形成有内部空间，反应腔的下方设置有基座，基座上方为等离子体处理区域；前端模块包括洁净腔、设置在洁净腔上端口的洁净腔窗体、盖设于洁净腔窗体上的洁净腔盖体，洁净腔盖体与洁净腔窗体之间形成有容设空间，洁净腔的下方设置有承载台，承载台的上方设置有风机过滤单元；进一步包括气体调节器，气体调节器的一端通过气体管道连接于处理模块的内部空间以向其内输送冷气，气体调节器的另一端通过气体管道连接于前端模块的容设空间以向其内输送热气。

本发明授权一种等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，包括处理模块及前端模块，其特征在于：所述处理模块包括反应腔、设置在反应腔上端口的反应腔窗体、盖设于反应腔窗体上的反应腔盖体，所述反应腔盖体与反应腔窗体之间形成有内部空间，所述反应腔的下方设置有基座，用以承载待处理基片，所述基座上方为等离子体处理区域；所述前端模块包括洁净腔、设置在洁净腔上端口的洁净腔窗体、盖设于洁净腔窗体上的洁净腔盖体，所述洁净腔盖体与洁净腔窗体之间形成有容设空间，所述洁净腔的下方设置有承载台，用以承载基片，所述承载台的上方设置有风机过滤单元，用以过滤洁净腔内气体；所述基片可以通过机械手在所述反应腔与洁净腔之间传输；所述等离子体处理装置进一步包括气体调节器，所述气体调节器的一端通过气体管道连接于处理模块的内部空间以向其内输送冷气，所述气体调节器的另一端通过气体管道连接于前端模块的容设空间以向其内输送热气。

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