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龙图腾网恭喜中国科学院计算技术研究所申请的专利一种数字集成电路的前端工艺迁移优化方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114021515B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111254051.3，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权一种数字集成电路的前端工艺迁移优化方法及系统是由李威;王咸焯;朱海丰;潘朝凤;刘俊英设计研发完成，并于2021-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种数字集成电路的前端工艺迁移优化方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提出一种数字集成电路的前端工艺迁移优化方法和系统，通过对特定电路器件尺寸参数有限次数的仿真作为神经网络的训练样本，构建起关键指标对电路器件尺寸参数的模型，并基于该模型快速设计器件尺寸参数，完成新工艺下的前段工艺迁移。使用深度神经网络方法对模型参数进行训练，获取到优化目标与器件尺寸的关系，相比于暴力穷举方法，能够在很短的时间内获取到优化目标模型；再使用几何规划方法，能够获取到尺寸参数设计空间内的全局最优解。能够使用尽可能少的时间完成定制数字集成电路的前端工艺迁移。

本发明授权一种数字集成电路的前端工艺迁移优化方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种数字集成电路的前端工艺迁移优化方法，其特征在于，包括：步骤1、获取原始工艺下的数字集成电路和目标工艺的设计工具包；步骤2、按照该原始工艺和该目标工艺间最小线宽的比值，初始化该数字集成电路中器件的尺寸，得到该数字集成电路中各器件的初始长度和初始宽度；步骤3、根据该初始长度、该初始宽度和该设计工具包，确定各器件的尺寸约束；步骤4、在满足所有器件的尺寸约束的集合中取多组尺寸参数，对每组尺寸参数进行电路仿真，得到每组尺寸参数对应的关键路径延时和电流值，并按照该目标工艺下集成电路版图的设计规则以及整体的版图规划，确定每组尺寸参数下的电路版图面积；步骤5、以每组尺寸参数作为训练输入，以每组尺寸参数对应的该关键路径延时、该电流值和该电路版图面积为训练目标，训练基于DNN网络的数字集成电路工艺迁移模型；步骤6、获取工艺迁移的优化目标，将该数字集成电路工艺迁移模型代入该优化目标，同时结合该尺寸约束，使用几何规划方法，得到在该优化目标和该目标工艺下对应的各器件尺寸参数。

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