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龙图腾网恭喜广东科技学院申请的专利一种可提升硅片方阻均匀性的扩散炉获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113122927B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110570620.9，技术领域涉及：C30B31/10；该发明授权一种可提升硅片方阻均匀性的扩散炉是由周继承;曾世魁设计研发完成，并于2021-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可提升硅片方阻均匀性的扩散炉在说明书摘要公布了：本发明属于半导体扩散工艺设备领域，公开一种可提升硅片方阻均匀性的扩散炉，包括：炉门、炉体、进气管、出气管和隔热部，炉体一侧开口，炉门安装在炉体的开口处，炉门一端与炉体铰接，进气管和出气管分别与炉体连通，进气管至少为两个，炉体内靠近炉门一侧活动设置有隔热部。本方案可以使炉口气体浓度以及停留时间增加，并采用多路进气管，改善炉口处气体均匀性，提升了炉口附近硅片方阻扩散的均匀性。

本发明授权一种可提升硅片方阻均匀性的扩散炉在权利要求书中公布了：1.一种可提升硅片方阻均匀性的扩散炉，其特征在于：包括炉门1、炉体4、进气管7、出气管8和隔热部，所述炉体4一侧开口，所述炉门1安装在所述炉体4的开口处，所述炉门1一端与所述炉体4铰接，所述进气管7和所述出气管8分别与所述炉体4连通，所述进气管7至少为两个，所述炉体4内靠近炉门1一侧活动设置有所述隔热部；所述隔热部为隔热板3，所述隔热板3中间开设有通孔31，所述隔热板3外边缘与所述炉体4内壁贴合；还包括连接杆2和止挡部41，所述连接杆2的一端与所述炉门1固定连接，所述炉门1上端与所述炉体4铰接，所述连接杆2的另一端与所述隔热板3固定连接，所述炉体4内壁下侧向上凸起形成止挡部41，所述止挡部41包括结合面411和止挡面412，所述结合面411与所述隔热板3下边缘抵接，所述止挡面412与所述隔热板3侧面抵接，用以限制所述隔热板3向远离炉门1一侧移动；所述出气管8与所述炉体4下端连通，所述出气管8设置在所述炉门1与所述隔热板3之间；还包括分流结构6，设置于远离炉门1侧，所述分流结构6将所述炉体4逐级分隔成多个腔室；所述分流结构6包括固定杆61和多个分流板，多个所述分流板均平行布置，并与所述固定杆61垂直固定连接，所述固定杆61两端与所述炉体4固定连接，所述分流板侧边与所述炉体4侧壁固定连接；多个所述分流板包括一块第一分流板62、两块第二分流板63、四块第三分流板64，多个所述分流板靠近炉门1的一端对齐设置，所述第二分流板63的长度介于所述第一分流板62的长度与所述第三分流板64的长度之间，所述第三分流板64的长度小于第二分流板63所述的长度，所述第一分流板62设置在所述炉体4轴线上，两块所述第二分流板63分别设置在两个所述进气管7轴线上，所述第三分流板64设置在每个所述第二分流板63相邻两侧，多个所述分流板之间的间距相等。

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