恭喜复旦大学吴伟获国家专利权
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龙图腾网恭喜复旦大学申请的专利氮杂-氟硼二吡咯甲川在制备测定胶束浓度的荧光指示剂中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114720434B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111214188.6，技术领域涉及：G01N21/64；该发明授权氮杂-氟硼二吡咯甲川在制备测定胶束浓度的荧光指示剂中的应用是由吴伟;赵伟利;何海生;董肖椿;卢懿;戚建平;季鑫设计研发完成，并于2021-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本氮杂-氟硼二吡咯甲川在制备测定胶束浓度的荧光指示剂中的应用在说明书摘要公布了：本发明属化学分析技术领域，涉及氮杂‑氟硼二吡咯甲川在制备测定临界胶束浓度的荧光指示剂中的应用，尤其是式Ⅰ或II结构的氮杂‑氟硼二吡咯甲川化合物在制备测定两亲性表面活性物质临界胶束浓度中的应用。所述的氮杂‑氟硼二吡咯甲川化合物具有在表面活性物质CMC以下无荧光的特征，以及吸收和荧光发射波长长，量子产率高，化学和光学性质稳定，并且在CMC下受散射和背景荧光干扰小，因此荧光突变更显著，测定终点更容易判断，准确度更高。本发明适用于正、负离子表面活性剂、非离子表面活性剂、两亲性嵌段聚合物CMC的测定，适用的CMC范围从毫摩尔浓度mM至纳摩尔浓度nM，尤其适用于具有极低CMC值的两亲性嵌段聚合物的测定。
本发明授权氮杂-氟硼二吡咯甲川在制备测定胶束浓度的荧光指示剂中的应用在权利要求书中公布了：1.式I结构的氮杂-氟硼二吡咯甲川荧光探针在制备测定临界胶束浓度的荧光指示剂中的应用，其中，以荧光探针作为荧光指示剂；所述的临界胶束浓度是表面活性物质的临界胶束浓度，所述表面活性物质选自阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、两亲性表面活性物质， 其中，Ar1、Ar2、Ar3、Ar4选自苯基、甲氧基取代的苯基、甲基取代的苯基、吡啶基、噻吩基、甲基取代的噻吩基、呋喃基、甲基取代的呋喃基。
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