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恭喜悟劳茂材料公司李炳一获国家专利权

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龙图腾网恭喜悟劳茂材料公司申请的专利掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112740437B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201980062037.8,技术领域涉及:H10K71/00;该发明授权掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法是由李炳一;张泽龙;李永浩;金奉辰设计研发完成,并于2019-10-07向国家知识产权局提交的专利申请。

掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法在说明书摘要公布了:本发明涉及掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的掩模支撑模板的制造方法,该模板50用于支撑OLED像素形成用掩模100并使其与框架200对应,该方法包括以下步骤:a准备经轧制生成的掩模金属膜110';b将掩模金属膜110'粘合到一面形成有临时粘合部55的模板50上;c缩减模板50上粘合的掩模金属膜110'的厚度;以及d通过在掩模金属膜110上形成掩模图案P来制造掩模100。

本发明授权掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种掩模支撑模板的制造方法,该掩模支撑模板用于粘合并支撑OLED像素形成用掩模并将其移送至框架,在使掩模与框架对应地附着后,从掩模分离模板,其中,该方法包括以下步骤:a准备掩模金属膜;b将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上;c缩减模板上粘合的掩模金属膜的厚度;以及d通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模,所述步骤d包括以下步骤:d1在掩模金属膜上形成图案化的绝缘部;d2通过对绝缘部之间露出的掩模金属膜部分进行蚀刻来形成掩模图案;以及d3去除绝缘部。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人悟劳茂材料公司,其通讯地址为:韩国京畿道;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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