恭喜中国工程物理研究院电子工程研究所杨天宇获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国工程物理研究院电子工程研究所申请的专利带位移放大齿的行波微执行器结构、制备方法及微型电机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115132914B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210762276.8，技术领域涉及：H10N30/30；该发明授权带位移放大齿的行波微执行器结构、制备方法及微型电机是由杨天宇;陈余;李小石;孙翔宇设计研发完成，并于2022-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本带位移放大齿的行波微执行器结构、制备方法及微型电机在说明书摘要公布了：本发明公开了带位移放大齿的行波微执行器结构、制备方法及微型电机，涉及行波微执行器技术领域，其技术方案要点是：包括依次设置的PZT层、顶硅结构层以及多个定子齿；多个所述定子齿以圆周分布方式布置在顶硅结构层背向PZT层的侧面，且相邻的定子齿间隔设置。一方面，利用PZT‑SOI片中的背硅支撑层制备定子齿；另一方面，采用两个PZT‑SOI片的键合方式实现行波微执行器结构的制备。本发明结合MEMS工艺在原PZT结构的基础上，有效解决了PZT薄膜的摩擦磨损问题，同时可以提升输出力矩。
本发明授权带位移放大齿的行波微执行器结构、制备方法及微型电机在权利要求书中公布了：1.带位移放大齿的行波微执行器结构，其特征是，包括依次设置的PZT层1、顶硅结构层2以及多个定子齿5；多个所述定子齿5以圆周分布方式布置在顶硅结构层2背向PZT层1的侧面，且相邻的定子齿5间隔设置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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