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龙图腾网恭喜上海航天设备制造总厂有限公司申请的专利火箭破裂膜片飞秒激光加工刻痕有效深度测定方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118816745B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411296117.9，技术领域涉及：G01B11/22；该发明授权火箭破裂膜片飞秒激光加工刻痕有效深度测定方法及系统是由匡以武;杨洋;徐世俊;孟金龙;王肖;傅乐平;洪城;杨思;庄宏设计研发完成，并于2024-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本火箭破裂膜片飞秒激光加工刻痕有效深度测定方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种火箭破裂膜片飞秒激光加工刻痕有效深度测定方法及系统，属于长度、厚度或类似线性尺寸的计量技术领域，包括膜片刻痕形貌的测量、数据处理和有效深度的计算。本发明通过对破裂膜片微小梯形刻痕进行共聚焦显微测量，根据测量点云数据进行数据处理和统计分析，确定刻痕顶和刻痕底的高度差，从而计算出刻痕的有效深度；解决了破裂膜片有效刻痕深度的准确测量问题，能够用于膜片性能的精确预测，具有重要的工程价值。

本发明授权火箭破裂膜片飞秒激光加工刻痕有效深度测定方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种火箭破裂膜片飞秒激光加工刻痕有效深度测定方法，其特征在于，包括：步骤S1：针对破裂膜片的刻痕使用激光共聚焦显微镜测量获得刻痕的三维点云数据；步骤S2：对刻痕的三维点云数据进行平面拟合，得到基准平面；步骤S3：使用基准平面对刻痕的三维点云数据进行平面校准，获得平面校准后的三维点云数据；步骤S4：对校准后的三维点云数据的高度坐标信息进行统计分析，获得数据的双峰分布直方图；步骤S5：使用统计平均法分别计算两个波峰位置的高度平均值；步骤S6：计算双峰高度平均值之差，获得膜片梯形刻痕的有效深度；所述步骤S5包括：将直方图中z坐标小于刻痕平均深度的数据视为数据较小部分，对数据较小部分的分布进行降序排列，获得每个区间点云数据从高到低的排列列表；基于当前排列列表获取列表中的前n个元素，L1,L2,...,Ln；基于L1,L2,...,Ln构建刻痕底部波峰；将直方图中z坐标大于刻痕平均深度的数据视为数据较大部分，对数据较大部分的分布进行降序排列，获得每个区间点云数据从高到低的排列列表；基于当前排列列表获取列表中的前n个元素H1,H2,...,Hn；基于H1,H2,...,Hn构建刻痕顶部波峰；获得L1内所有点云的高度平均值后，使用该平均值作为刻痕底部平面的有效高度；当L1和L2内点云数量相差小于预设值时，计算L1和L2内的所有点云数据的高度平均值，使用该平均值作为刻痕底部平面的有效高度；当L1和L2内点云数量相差小于预设值，且L2和L3内点云数量相差小于预设值，计算L1、L2和L3内的所有点云数据的高度平均值，使用该平均值作为刻痕底部平面的有效高度；以此类推至Ln；其中，；获得H1内所有点云的高度平均值后，使用该平均值作为刻痕顶部平面的有效高度；当H1和H2内点云数量相差小于预设值时，计算H1和H2内的所有点云数据的高度平均值，使用该平均值作为刻痕顶部平面的有效高度；当H1和H2内点云数量相差小于预设值，且H2和H3内点云数量相差小于预设值，计算H1、H2和H3内的所有点云数据的高度平均值，使用该平均值作为刻痕顶部平面的有效高度。

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