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龙图腾网恭喜无锡尚积半导体科技股份有限公司申请的专利完全非对称式PVD磁控器及镀膜试验方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118957526B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411422142.7，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权完全非对称式PVD磁控器及镀膜试验方法是由张陈斌;张超;姜颖;郭俊伟;宋永辉;王世宽设计研发完成，并于2024-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本完全非对称式PVD磁控器及镀膜试验方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种完全非对称式PVD磁控器及镀膜试验方法，完全非对称式PVD磁控器包括上安装盘，经所述上安装盘直径的其中两条直线分别配置为第一直线和第二直线，所述第一直线与所述第二直线互相垂直；下安装盘，位于第一直线的一侧、相对于第二直线镜像对称；若干磁铁，分别布置在所述下安装盘靠近上安装盘的侧面上；配重块，位于第一直线的另一侧、与所述上安装盘相连接，所述配重块相对于第二直线镜像对称；移动件，用于驱动所述下安装盘沿所述第二直线移动，以使得所述磁控组件靠近或远离所述回转中心；镀膜试验方法使用完全非对称式PVD磁控器来实现，利用下安装盘、磁铁、配重块和移动块的配合解决侧壁台阶镀膜偏边问题。

本发明授权完全非对称式PVD磁控器及镀膜试验方法在权利要求书中公布了：1.一种完全非对称式PVD磁控器，其特征在于，包括：上安装盘（100），所述上安装盘（100）的圆心配置为回转中心，经所述上安装盘（100）直径的其中两条直线分别配置为第一直线和第二直线，所述第一直线与所述第二直线互相垂直；下安装盘（200），位于第一直线的一侧、相对于第二直线镜像对称；磁控组件，包括若干磁铁（300），分别布置在所述下安装盘（200）靠近上安装盘（100）的侧面上；在两个相邻所述磁铁（300）中，其中一个所述磁铁（300）一端的磁极与其中另一个所述磁铁（300）一端的磁极相反；配重块（400），位于第一直线的另一侧、与所述上安装盘（100）相连接，所述配重块（400）相对于第二直线镜像对称；移动件（500），用于驱动所述下安装盘（200）沿所述第二直线移动，以使得所述磁控组件靠近或远离所述回转中心，所述移动件（500）包括上滑块（510）、下滑块（520）、若干凹槽（521）、拨片（530），所述上滑块（510）设置在所述上安装盘（100）上，所述下滑块（520）设置在所述下安装盘（200）上、能够沿第二直线移动，若干凹槽（521）间隔布置在所述下滑块（520）上，任一所述凹槽（521）沿第一直线延伸，所述拨片（530）配置在所述上滑块（510）上，所述拨片（530）能够随所述下滑块（520）的移动进入其中一个所述凹槽（521）内；紧固件（600），用于固定所述上安装盘（100）和所述下安装盘（200）之间的相对位置；其中，所述上滑块（510）和所述下滑块（520）之间形成容纳空间（540），所述容纳空间（540）内转动设置有滚动件（550），当所述下滑块（520）滑动时，所述滚动件（550）沿着所述上滑块（510）的内壁或所述下滑块（520）的内壁滚动。

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