恭喜深圳市新凯来技术有限公司兰增奇获国家专利权
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龙图腾网恭喜深圳市新凯来技术有限公司申请的专利静电卡盘及工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119069414B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411555692.6，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权静电卡盘及工艺设备是由兰增奇设计研发完成，并于2024-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本静电卡盘及工艺设备在说明书摘要公布了：本申请涉及工艺设备技术领域，尤其涉及到一种静电卡盘及工艺设备。静电卡盘包括基底、第一绝缘介质层和第二绝缘介质层，第一绝缘介质层设置于基底上，第二绝缘介质层设置于第一绝缘介质层背离基底的一侧；其中，第一绝缘介质层内具有至少一个电极对，每个电极对包括一个正电极和一个负电极，第二绝缘介质层和第一绝缘介质层在基底的投影中，第二绝缘介质层的投影至少部分与一个电极对的投影交叠；第二绝缘介质层的电阻率小于第一绝缘介质层的电阻率。本申请中的静电卡盘表面聚集的净电荷释放速较快，可以降低待加工器件从卡盘表面脱离的难度。
本发明授权静电卡盘及工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种静电卡盘，其特征在于，包括：基底；第一绝缘介质层，所述第一绝缘介质层设置于所述基底的一侧，所述第一绝缘介质层内部具有至少一个电极对，每个所述电极对包括一个正电极和一个负电极；第二绝缘介质层，所述第二绝缘介质层设置于所述第一绝缘介质层背离所述基底的一侧，且所述第二绝缘介质层和所述第一绝缘介质层在所述基底的投影中，所述第二绝缘介质层的投影至少部分与一个所述电极对的投影交叠；其中，所述第二绝缘介质层的电阻率小于所述第一绝缘介质层的电阻率，所述第二绝缘介质层的电阻率与所述第一绝缘介质层的电阻率的比值在~之间，所述静电卡盘还包括多个凸出部，所述凸出部设置于所述第一绝缘介质层背离所述基底的一侧，所述凸出部的厚度大于所述第二绝缘介质层的厚度。
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