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龙图腾网恭喜合肥芯投微电子有限公司申请的专利具有抑制杂模波纹功能的谐振器、滤波器以及成型方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117713738B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311789028.3，技术领域涉及：H03H9/25；该发明授权具有抑制杂模波纹功能的谐振器、滤波器以及成型方法是由郑晶晶;邱鲁岩;智树芳;王旭;朱敏设计研发完成，并于2023-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本具有抑制杂模波纹功能的谐振器、滤波器以及成型方法在说明书摘要公布了：本发明公开了具有抑制杂模波纹功能的谐振器、滤波器以及成型方法，包括上叉指区域和下叉指区域，上叉指区域和下叉指区域均包括间隔并排设置的多个叉指条和设置于叉指条一端且与所有叉指条相连通的汇流条区，上叉指区域的多个叉指条和下叉指区域的多个叉指条间隔交叉设置，上叉指区域和下叉指区域中均划分有功能区D，功能区D上设置有基于化学反应得到的金属化合物膜层；该具有抑制杂模波纹功能的谐振器、滤波器以及成型方法通过改变功能区反射特性，达到优化衰减杂模传播作用。

本发明授权具有抑制杂模波纹功能的谐振器、滤波器以及成型方法在权利要求书中公布了：1.具有抑制杂模波纹功能的谐振器，其特征在于，从下到上依次设置的晶圆基底（6）和叉指金属层（7），所述叉指金属层（7）包括上叉指区域（1）和下叉指区域（2），上叉指区域（1）和下叉指区域（2）均包括间隔并排设置的多个叉指条（3）和设置于叉指条（3）一端且与所有叉指条（3）相连通，上叉指区域（1）的多个叉指条（3）和下叉指区域（2）的多个叉指条（3）间隔交叉设置，上叉指区域（1）和下叉指区域（2）中均划分有功能区D，功能区D中的叉指条（3）上部基于化学反应得到覆盖的金属化合物膜层（5）；谐振器的成型方法具体为：对晶圆基底（6）和叉指金属层（7）组成的结构进行功能区划分，得到功能区C和功能区D；通过离子注入、刻蚀溅射反应、反应离子束抛光等技术将气体液体固体的反应物注入到叉指金属层（7）上方；位于功能区D的叉指金属层（7）中的叉指条（3）与注入的反应物进行化学反应，得到金属化合物，所得到的金属化合物将覆盖在进行化学反应的叉指条（3）上方形成金属化合物膜层（5）；当金属化合物膜层（5）的厚度为1%λ~3%λ时，停止注入反应物，完成金属化合物膜层（5）设置，λ表示压电晶体中传播声波的波长。

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