恭喜AMS-欧司朗有限公司黛博拉·莫尔克罗夫特获国家专利权
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龙图腾网恭喜AMS-欧司朗有限公司申请的专利干涉滤光片、光学器件和制造干涉滤光片的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115280194B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180020983.3，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权干涉滤光片、光学器件和制造干涉滤光片的方法是由黛博拉·莫尔克罗夫特;格哈德·艾尔姆施泰纳;曼纽尔·科赫设计研发完成，并于2021-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本干涉滤光片、光学器件和制造干涉滤光片的方法在说明书摘要公布了：干涉滤光片包括基板、滤光片堆叠和至少一个吸收层。滤光片堆叠包括布置在基板上的具有不同折射率的光学涂层的交替层。至少一个吸收层由布置在基板上的光吸收材料组成。
本发明授权干涉滤光片、光学器件和制造干涉滤光片的方法在权利要求书中公布了：1.一种干涉滤光片，包括：-基板（SB），-滤光片堆叠（FS），所述滤光片堆叠（FS）包括布置在基板（SB）上的具有不同折射率的光学涂层的交替层，以及-布置在基板（SB）上的光吸收材料的至少一个吸收层（AL），-其中所述光学涂层具有总透射光谱，所述总透射光谱具有至少一个光谱截止和或至少一个光谱工作，并且-所述至少一个吸收层（AL）的吸收光谱的至少一个吸收峰与所述至少一个光谱截止和或所述至少一个光谱工作匹配，使得透射穿过所述干涉滤光片（IF），随后从光学传感器（OS）部分地反射回所述干涉滤光片（IF）并且在所述滤光片堆叠（FS）处进一步部分地反射回所述光学传感器（OS）的背向反射光的强度（IBR）降低，其中，光谱截止为在短通滤光片中透射降低到总量的50%时的波长；光谱工作为在长通滤光片中透射增加到总量的50%时的波长。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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