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龙图腾网恭喜武汉帝尔激光科技股份有限公司申请的专利膏体分配装置及膏体分配装置的膏体分配方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115489196B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110673006.5，技术领域涉及：B41F15/42；该发明授权膏体分配装置及膏体分配装置的膏体分配方法是由加德·伊格拉设计研发完成，并于2021-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本膏体分配装置及膏体分配装置的膏体分配方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种膏体分配装置和一种膏体分配装置的膏体分配方法。膏体分配装置包括印刷头和加压膏体供应单元。印刷头包括入口开口、出口开口、连通所述入口开口和所述出口开口的内腔和至少一个分配开口，其中，经由所述至少一个分配开口将所述内腔中的膏体分配至工件上。加压膏体供应单元构造成使膏体依次循环穿过所述印刷头的所述入口开口、所述内腔和所述出口开口。本发明的膏体分配装置和方法在使膏体分配穿过与内腔流体连通的分配开口的同时保持穿过印刷头的内腔的连续膏体循环，由此维持膏体的长期有效沉积，同时保持膏体的具体机械和成分特性。

本发明授权膏体分配装置及膏体分配装置的膏体分配方法在权利要求书中公布了：1.一种膏体分配装置，包括：印刷头，所述印刷头包括入口开口、出口开口、连通所述入口开口和所述出口开口的内腔和至少一个分配狭缝，其中，经由所述至少一个分配狭缝将所述内腔中的膏体分配至工件上；以及加压膏体供应单元，所述加压膏体供应单元构造成使膏体依次循环穿过所述印刷头的所述入口开口、所述内腔和所述出口开口，其中，所述加压膏体供应单元中的压力被调节，以保持所述膏体穿过所述入口开口、所述内腔和所述出口开口的连续循环并且控制所述膏体穿过所述至少一个分配狭缝的分配，其中，所述膏体是高粘度的金属膏体，其中，所述至少一个分配狭缝构造成分配所述高粘度的金属膏体以在所述工件的表面上形成对应的至少一个膏体线，其中，所述加压膏体供应单元包括压力控制膏体储存器和膏体泵，所述膏体泵的入口与所述压力控制膏体储存器的出口流体连通以将来自所述压力控制膏体储存器的膏体泵送至所述印刷头的内腔中，并且其中，所述膏体泵的入口与所述出口开口流体连通以将所述内腔中的膏体输送至所述膏体泵。

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