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摘要：等离子体处理设备包括基板卡盘、聚焦环和边缘块，基板卡盘具有用于支撑基板的第一表面、与第一表面相对的第二表面及侧壁，聚焦环用于包围基板的周界；边缘块用于支撑聚焦环。所述边缘块包括位于基板卡盘的侧壁上的侧电极和位于基板卡盘的第二表面上的底电极。
主权项：1.一种等离子体处理设备，包括：基板卡盘，其具有用于支撑基板的第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、和侧壁；聚焦环，其用于包围所述基板的周界；以及边缘块，其用于支撑所述聚焦环，其中，所述边缘块包括：侧电极，其位于所述基板卡盘的侧壁上，其与所述基板卡盘的侧壁水平地间隔开，并平行于所述基板卡盘的侧壁延伸，以及底电极，其位于所述基板卡盘的第二表面上，其与所述基板卡盘的第二表面竖直地间隔开，并平行于所述基板卡盘的第二表面延伸，并且其中，所述底电极连接到所述侧电极。
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