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摘要：本发明涉及一种用于在真空系统提供的真空下借由气相沉积法涂布对象表面的设备1，其包括处理室12，该处理室12包括用于接纳待涂布对象的至少一个处理腔以及连接到至少一个处理腔的至少一个附加处理室12，用于导通待沉积气体和或排放未沉积的部分气体量，其中，至少一个附加处理室12中布置有用于检测处理室12的表面或表面部段上涂层厚度的测量单元14，其中，该测量单元14能连接到控制评估单元30。本发明还涉及一种用于根据本发明的设备1监测用于涂布对象表面的设备1的传导路径中表面的方法，其中，测量单元14检测至少一个附加处理室12表面上涂层厚度的实际数据作为测量值，这些实际数据转发到评估装置，在评估装置中将这些实际数据与额定数据进行比较。
主权项：1.一种用于在真空系统提供的真空下借由气相沉积法涂布对象表面的设备1，其包括处理室12，所述处理室12包括用于接纳待涂布对象的至少一个处理腔以及连接到所述至少一个处理腔的至少一个附加处理室12，用于导通待沉积气体和或排放未沉积的部分气体量，其特征在于，所述至少一个附加处理室12中布置有用于检测所述处理室12的表面或表面部段上涂层厚度的测量单元14，其中，所述测量单元14能连接到控制评估单元；所述待涂布对象的表面是中空体的内表面；所述气相沉积法是PVD、CVD或PCVD方法；涂层厚度的测量在连续的涂布过程期间进行；所述测量单元14包括具有传感器部段的涂层厚度检测元件15，并且所述传感器部段包括应变测量片和或电阻测量片和或电容传感器测量片和或磁感应测量片；所述涂层厚度检测元件15布置在涂布室外部，所述涂层厚度检测元件15布置在工艺气体从所述处理室12朝向真空泵排放的管线中。
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百度查询： KHS有限公司 用于真空涂布对象表面的设备及方法
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