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一种弱吸收低反清底色防蓝光树脂镜片及其制备方法 

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摘要:本发明提供了一种弱吸收低反清底色防蓝光树脂镜片及其制备方法,包括:树脂镜片基片、加硬层以及弱吸收低反清底色防蓝光膜层;其中,所述树脂镜片基片、加硬层以及弱吸收低反清底色防蓝光膜层依次排列,所述加硬层位于所述树脂镜片基片表面,所述弱吸收低反清底色防蓝光膜层位于所述加硬层表面所述弱吸收低反清底色防蓝光膜层包括硅铝复合氧化物层、钛铌复合氧化物层、氮化钽层、二氧化硅层以及掺锡氧化铟层。本发明通过调整超低反清底色防蓝光膜层结构以及专门的氮化钽材料和恰当的工艺,获得了具有视觉清澈效果的超低反镜片并且极大地提高了树脂镜片耐高温性能和抗环境性能,具有良好市场应用前景。

主权项:1.一种弱吸收低反清底色防蓝光树脂镜片,其特征在于,包括:树脂镜片基片、加硬层以及弱吸收低反清底色防蓝光膜层;其中,所述树脂镜片基片、加硬层以及弱吸收低反清底色防蓝光膜层依次排列,所述加硬层位于所述树脂镜片基片表面,所述弱吸收低反清底色防蓝光膜层位于所述加硬层表面;所述弱吸收低反清底色防蓝光树脂镜片还包括防水层,所述防水层位于所述弱吸收低反清底色防蓝光膜层表面;且所述弱吸收低反清底色防蓝光膜层包括三层硅铝复合氧化物层、三层钛铌复合氧化物层、一层氮化钽层,即TaN层、一层二氧化硅层,即SiO2层以及一层掺锡氧化铟层,即ITO层,其中,所述弱吸收低反清底色防蓝光膜层中,所述各层依次为:(1)硅铝复合氧化物层、(2)钛铌复合氧化物层、(3)TaN层,(4)SiO2层、(5)钛铌复合氧化物层、(6)硅铝复合氧化物层、(7)钛铌复合氧化物层、(8)ITO层、(9)硅铝复合氧化物层;且所述第一层硅铝复合氧化物层位于所述加硬层表面;所述弱吸收低反清底色防蓝光树脂镜片的制备方法,包括以下步骤:S1制备加硬层:在树脂镜片基片表面形成加硬层,即获得含加硬层的树脂镜片,具体包括:将超声波清洗干净的树脂镜片基片浸入质量百分含量25~30%的加硬液水溶液中,浸渍温度10~20℃,浸渍4~8秒后以1.0~3.0mms的速度提拉出溶液,再将其于70~90℃烘干2~5小时后将上述基片取出并送至烘干箱内干燥固化,固化温度100~150℃,固化时间120~180min,即得含加硬层的树脂镜片;S2制备弱吸收低反清底色防蓝光膜层:在在真空镀膜机内、采用真空镀膜工艺,将硅铝复合氧化物层、钛铌复合氧化物、氮化钽、二氧化硅以及ITO固态膜层材料蒸发后经过气相传输,在S1步骤获得的树脂镜片表面沉积成薄膜,具体包括以下步骤:S21:在步骤S1获得的树脂镜片表面形成第一层硅铝复合氧化物层,在本底真空度≤3×10-3Pa、且镀膜舱内温度为50~70℃、有离子源辅助工艺的条件下,采用高能电子束加热所述硅铝复合氧化物,以速率为5~7ÅS将蒸发后的硅铝复合氧化物以纳米级分子形式沉积,获得含第一层硅铝复合氧化物层的树脂镜片;S22:在步骤S21获得的树脂镜片表面形成钛铌复合氧化物层,在S21获得的树脂镜片表面,在本底真空度≤3×10-3Pa、且镀膜舱内的温度为50~70℃、有离子源辅助工艺的条件下,采用高能电子束加热所述钛铌复合氧化物,以速率为2~4ÅS将蒸发后的钛铌复合氧化物以纳米级分子形式沉积,获得含第二层钛铌复合氧化物层的树脂镜片;S23:在步骤S22获得的树脂镜片表面形成氮化钽层,具体包括:S231:先抽真空至本底真空度≤8×10-4Pa,再用离子源霍尔源轰击50~80秒,离子源轰击参数为:阳极电压:90~140V,阳极电流:2.5~5A,辅助气为Ar,流量为5~20sccm;S232:在离子源辅助工艺下沉积,采用高能电子束加热TaN,以速率0.5~1.0ÅS将蒸发的TaN以纳米级分子形式沉积,所述离子源辅助参数为:阳极电压:90~140V,阳极电流:2.5~5A,辅助气为Ar和N2,Ar流量为5~15sccm、N2流量为:3~15sccm;S233:继续用离子源霍尔源轰击TaN膜层表面20~40秒,所述轰击参数为:阳极电压:90~140V,阳极电流:2.5~5A,辅助气为Ar和N2,Ar流量为5~15sccm、N2流量为:3~15sccm;S24:在S23获得的树脂镜片表面,在本底真空度≤3×10-3Pa、且镀膜舱内的温度为50~70℃、并有离子源辅助工艺的条件下,采用高能电子束加热SiO2,以速率为5~20ÅS将蒸发后的SiO2以纳米级分子形式沉积,获得含SiO2层的树脂镜片;所述离子源辅助参数为:阳极电压:90~140V,阳极电流:2.5~5A,辅助气为Ar,流量为5~20sccm;S25:重复S22步骤,在步骤S24获得的树脂镜片表面形成钛铌复合氧化物层;S26:重复S21步骤,在步骤S25获得的树脂镜片表面形成硅铝复合氧化物层;S27:重复S22步骤,在步骤S26获得的树脂镜片表面形成钛铌复合氧化物层;S28:在S27获得的树脂镜片表面,在本底真空度≤3×10-3Pa、且镀膜舱内的温度为50~70℃、并有离子源辅助工艺的条件下,采用高能电子束加热ITO,以速率为1~3ÅS将蒸发后的ITO以纳米级分子形式沉积,获得含ITO层的树脂镜片;S29:在S28获得的树脂镜片表面,继续采用真空镀膜工艺,重复S21的工艺步骤,再形成一层含硅铝复合氧化物层的树脂镜片;S3制备防水层:在步骤S2获得的树脂镜片表面形成防水层,具体包括:在S29步骤获得的镜片表面,继续采用真空镀膜工艺,在本底真空度≤3×10-3Pa、且镀膜舱内的温度为50~70℃条件下,采用高能电子束加热材料,以速率为5~8ÅS将蒸发后的含氟防水材料以纳米级分子形式进行沉积,获得含防水层的树脂镜片。

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