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摘要：基板处理装置1的载置单元40设置于处理区块20与分度器区块10之间的连接部。载置单元40保持从分度器区块10朝中央机械手22传递的未处理的基板9。此外，载置单元40保持从中央机械手22朝分度器区块10传递的处理完毕的基板9。第一阻隔部51可阻隔氧浓度比大气低的低氧氛围的分度器区块10以及载置单元40与搬运路径23之间的气体的移动，该搬运路径23在处理区块20中连接处理单元21以及载置单元40。由此，能抑制基板处理装置1中的基板9的氧化。
主权项：1.一种基板处理装置，用以处理基板，并具备：处理区块，配置有用以处理基板的处理单元以及用以进行基板相对于所述处理单元的搬入以及搬出的第一搬运机械手；分度器区块，配置有用以进行基板相对于可收容多个基板的承载器的搬入以及搬出的第二搬运机械手；载置单元，设置于所述处理区块与所述分度器区块之间的连接部，用以保持从所述第二搬运机械手朝所述第一搬运机械手传递的未处理的基板以及从所述第一搬运机械手朝所述第二搬运机械手传递的处理完毕的基板；第一阻隔部，可阻隔氧浓度比大气低的低氧氛围的所述分度器区块以及所述载置单元与搬运路径之间的气体的移动，所述搬运路径在所述处理区块中连接所述处理单元与所述载置单元，以及第一气体供给部，对所述载置单元供给非活性气体，由此将所述载置单元设定成低氧氛围，所述第一阻隔部具备：第一门体，用以将连接所述搬运路径的内部空间与所述载置单元的内部空间的第一开口予以开闭，所述第一气体供给部设置于在所述载置单元保持的基板的侧方及或上方。
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