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摘要:本发明属于化学机械抛光垫技术领域,尤其涉及一种化学机械抛光垫的聚氨酯抛光层及其制备方法和应用、抛光垫;聚氨酯抛光层是通过异氰酸酯预聚物、固化剂和功能填料所得的产物;异氰酸酯预聚物为采用异氰酸酯、聚醚多元醇和任选的相对分子量小于等于500的小分子多元醇经反应制得的产物;固化剂为二胺化合物;功能填料包括已膨胀聚合物空芯微球和无机非金属粉末;无机非金属粉末的粒径大于1微米且小于6微米。本发明的抛光层在具备较高且稳定的抛光速率的同时密度分布均匀、均一性良好,提高了抛光垫的抛光质量。
主权项:1.一种化学机械抛光垫的聚氨酯抛光层,其是通过异氰酸酯预聚物、固化剂和功能填料所得的产物;其特征在于,所述异氰酸酯预聚物为采用异氰酸酯、聚醚多元醇和任选的相对分子量小于等于500的小分子多元醇经反应制得的产物;所述固化剂为二胺化合物;所述功能填料包括已膨胀聚合物空芯微球和无机非金属粉末;所述无机非金属粉末的粒径大于1微米且小于6微米,优选为2-4微米。
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百度查询: 万华化学集团电子材料有限公司 化学机械抛光垫的聚氨酯抛光层及其制备方法和应用、抛光垫
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