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矩阵式压力传感器的制备方法 

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申请/专利权人:广州增芯科技有限公司

摘要:本发明提供了一种矩阵式压力传感器的制备方法,其利用了IC工艺,该制备方法包括:提供第一衬底以及第二衬底;在第一衬底的表面形成第一键合介质;通过第一键合介质,将第一衬底和第二衬底键合;在第二衬底的表面形成孔柱,孔柱贯穿第二衬底以及第一键合介质;在孔柱的侧壁沉积隔离层;在孔柱内填充应变层,应变层的厚度高于第一键合介质的厚度;去除隔离层以及第一键合介质,形成空腔;在孔柱位于第二衬底的位置形成孔塞,密封空腔。本发明的制作过程工艺可靠稳定,且在衬底上形成的传感器点阵密度较高,兼顾降低传感器空间的要求。

主权项:1.一种矩阵式压力传感器的制备方法,其特征在于,包括:步骤S1:提供第一衬底以及第二衬底;步骤S2:在所述第一衬底的表面形成第一键合介质;步骤S3:通过所述第一键合介质,将所述第一衬底和所述第二衬底键合;步骤S4:在所述第二衬底的表面形成孔柱,所述孔柱贯穿所述第二衬底以及所述第一键合介质;步骤S5:在孔柱的侧壁沉积隔离层;步骤S6:在所述孔柱内填充应变层,所述应变层的厚度高于所述第一键合介质的厚度;步骤S7:去除所述隔离层以及所述第一键合介质,形成空腔;步骤S8:在所述孔柱位于所述第二衬底的位置形成孔塞,密封所述空腔。

全文数据:

权利要求:

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