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申请/专利权人：江阴江化微电子材料股份有限公司
摘要：本发明公开了一种Lift‑off工艺用去胶液，按质量百分比计主要组分包括：50%～80%的极性有机溶剂A、15%～40%的金属保护型极性有机溶剂B、3%～15%的磺酸盐阴离子表面活性剂和0.1%～10%的吸附型金属保护剂。该Lift‑Off工艺用去胶液在极性溶剂和金属保护剂组合的基础上，添加磺酸盐阴离子表面活性剂，提升去胶液对光刻胶的溶胀剥离能力，加快工件的光刻胶剥离处理效率。以使主要组分为极性溶剂、阴离子表面活性剂和金属保护剂的组合去胶液对Cr、Ti、Ag等待去胶工件常用目标图案金属材质无明显腐蚀，去胶过程中Al、Cu的腐蚀量符合生产要求。本发明还公开了一种Lift‑off工艺的去胶方法。
主权项：1.一种Lift-off工艺用去胶液，其特征在于，按质量百分比计主要组分包括：50%～80%的极性有机溶剂A、15%～40%的金属保护型极性有机溶剂B、3%～15%的磺酸盐阴离子表面活性剂和0.1%～10%的吸附型金属保护剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江阴江化微电子材料股份有限公司 一种Lift-off工艺用去胶液及去胶方法
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