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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：一种处理衬底的单元包括至少一个室壁、膜框架和膜。至少一个室壁布置成在衬底的保持器下方形成腔体。膜框架设置在至少一个室壁上并横跨腔体。膜由膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开。膜包括从腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中该角度大于或等于0°且小于或等于3°。
主权项：1.一种处理衬底的单元，所述单元包括：至少一个室壁，其布置成在所述衬底的保持器下方形成腔体；膜框架，其设置在所述至少一个室壁上并横跨所述腔体；以及由所述膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开的膜，其中所述膜包括从所述腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中所述角度大于或等于0°且小于或等于3°。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 用于电镀单元的低角度膜框架
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