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申请/专利权人：中国科学技术大学
摘要：本发明提出一种硬X射线波带片的制备方法，属于半导体技术领域，所述方法包括以下工艺步骤：步骤1、设计波带片结构曝光版图，将版图分为外环带A区域及内环带B区域两个部分；同时在波带片结构区域四周添加套刻对准标记C，测量对准误差的游标E1和E2；步骤2、制作波带片所需要的氮化硅悬膜衬底；步骤3、制作外环带A区域结构，同时加工对准标记C和对准游标E1结构；步骤4、使用对准标记C套刻制作内环带B区域结构，同时加工对准游标E2结构；步骤5、镜检波带片加工精度。本发明将波带片结构分成两步光刻和电镀制作，将波带片线宽差异大的波带分开光刻和电镀，可以提高波带片整体金属结构高度均匀性，进一步提高衍射效率。
主权项：1.一种硬X射线波带片的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下工艺步骤：步骤1、设计波带片结构曝光版图，将版图分为外环带A区域及内环带B区域两个部分；同时在波带片结构区域四周设置套刻对准标记C，测量对准误差的游标E1和E2；步骤2、制作波带片所需要的氮化硅悬膜衬底；步骤3、制作外环带A区域结构，同时加工对准标记C和对准游标E1结构；步骤4、使用对准标记C套刻制作内环带B区域结构，同时加工对准游标E2；步骤5、镜检波带片加工精度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学技术大学 一种硬X射线波带片的制备方法
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