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申请/专利权人：出光兴产株式会社
摘要：一种溅射靶，是具备包含氧化铟作为主成分的氧化物烧结体的溅射靶。所述氧化物烧结体的含氢浓度为5×1016atomscm3以上，In铟元素与O氧元素的原子浓度比O元素In元素为1.3以上且小于2.5，通过阿基米德法测量的所述氧化物烧结体的密度为6.0gcm3以上。
主权项：1.一种溅射靶，是具备包含氧化铟作为主成分的氧化物烧结体的溅射靶，其特征在于，所述氧化物烧结体的含氢浓度为5×1016atomscm3以上，In铟元素与O氧元素的原子浓度比O元素In元素为1.3以上且小于2.5，通过阿基米德法测量的所述氧化物烧结体的密度为6.0gcm3以上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 出光兴产株式会社 溅射靶、溅射靶的制造方法、氧化物薄膜、薄膜晶体管及电子设备
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