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申请/专利权人：江苏大学
摘要：本发明属于有机合成化学领域，公开一种利用可见光照射促进光敏还原脱除氟硼吡咯羧酸保护基的方法。该方法包括以下步骤：在惰性气氛下，将羧酸氟硼吡咯酯溶于适量有机溶剂中，加入催化量的光敏剂和过量的氢原子转移还原试剂。室温搅拌下用蓝色LED灯照射若干小时，即以良好的收率得到相应的羧酸。本发明操作条件温和、绿色环保，反应转化率高，后处理简单易行，适用于结构较为复杂的羧酸化合物的制备。采用本发明方法制备出的产品可广泛应用于医药等高附加值精细化学产品领域。
主权项：1.一种利用可见光照射促进光敏还原脱除氟硼吡咯羧酸保护基的方法，其特征在于，包括如下步骤：1向无色透明玻璃瓶中依次加入羧酸氟硼吡咯酯、有机溶剂、光敏剂和有机氢转移还原试剂，抽换惰性气体数次，室温搅拌，用蓝色LED灯照射反应若干小时；2反应结束后，减压蒸除有机溶剂，经过硅胶快速柱层析分离的到产物羧酸；反应流程如下式： 其中，R基团为饱和烷基、烯烃基、芳基、杂芳基或苄基；R'基团为氢、卤素或烷基。
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权利要求：
百度查询： 江苏大学 一种利用可见光照射促进光敏还原脱除氟硼吡咯羧酸保护基的方法
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