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申请/专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
摘要：本发明属于电池技术领域，公开了一种极片处理方法、极片处理设备及负极极片。所述极片包括基层以及设置在所述基层两侧表面上的石墨活性层，所述极片处理方法包括：对极片进行预处理，以排出所述石墨活性层中吸附的杂质；向所述极片补锂，以在所述石墨活性层表面形成锂层；在所述锂层表面加镀钝化层。通过预处理排出极片内吸附的气体杂质，避免在补锂过程中因气体杂质的释放导致锂原子沉积难度增大，有利于提高补锂效果。通过在锂层表面加镀钝化层，能够避免锂层与空气接触而产生钝化层杂质。
主权项：1.一种极片处理方法，极片10包括基层101以及设置在所述基层101两侧表面上的石墨活性层102，其特征在于，所述极片处理方法包括：对极片10进行预处理，以排出所述石墨活性层102中吸附的杂质；其中，所述预处理在预处理机构中执行，所述预处理机构用于对极片10预处理，以排出所述极片10中吸附的杂质；所述预处理机构包括相连通的加热室1和离子源室2，所述加热室1和所述离子源室2均连接有泵组6，所述泵组6用于对所述加热室1和所述离子源室2进行抽真空；所述加热室1内设置有加热组件，所述加热组件包括至少一组相对设置的两个加热板3，所述极片10能由两个所述加热板3之间通过；所述离子源室2内设置有离子源组件，所述离子源组件包括至少一组相对设置的两个离子源4，所述极片10能在两个所述离子源4之间通过；在所述预处理过程中，持续对所述极片10所处环境抽真空；在所述预处理过程中，先加热所述极片10，再轰击所述极片10；且在轰击所述极片10时，分别轰击所述极片10的正面和背面；向所述极片10补锂，以在所述石墨活性层102表面形成锂层20；在所述锂层20表面加镀钝化层30。
全文数据：
权利要求：
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