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用于深度可选X射线分析的系统和方法 

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申请/专利权人:斯格瑞公司

摘要:一种用于X射线分析的系统包括至少一个X射线源,该至少一个X射线源被配置为发射X射线。该至少一个X射线源包括至少一个碳化硅子源,该至少一个碳化硅子源位于至少一个导热衬底上或嵌入在其中,并且被配置为响应于对该至少一个碳化硅子源的电子轰击而产生X射线。从至少一个X射线源发射的X射线中的至少一部分包括SiX射线发射线X射线。该系统还包括至少一个X射线光具组,该至少一个X射线光具组被配置为接收SiX射线发射线X射线并利用SiX射线发射线X射线中的至少一部分来照射样品。

主权项:1.一种用于X射线分析的系统,所述系统包括:至少一个X射线源,被配置为发射X射线,所述至少一个X射线源包括至少一个碳化硅子源,所述至少一个碳化硅子源位于至少一个导热衬底上或嵌入至少一个导热衬底中,并且所述至少一个碳化硅子源被配置为响应于对所述至少一个碳化硅子源的电子轰击而产生所述X射线,从所述至少一个X射线源发射的所述X射线中的至少一部分包括SiX射线发射线X射线;以及至少一个X射线光具组,被配置为接收所述SiX射线发射线X射线并利用所述SiX射线发射线X射线中的至少一部分来照射样品。

全文数据:

权利要求:

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