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具有光电子雪崩放大效应的光电阴极结构、微光像增强器、EBAPS结构 

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申请/专利权人:北方夜视技术股份有限公司

摘要:本申请公开了一种具有光电子雪崩放大效应的光电阴极结构、微光像增强器、EBAPS结构,包括:玻璃入射窗、透明导电电极层、半导体雪崩倍增层、光电发射层、偏置电压电源;玻璃入射窗底面上设置透明导电电极层,透明导电电极层底面上设置半导体雪崩倍增层,半导体雪崩倍增层底面上设置光电发射层;偏置电压电源正极与光电发射层电连接;偏置电压电源的负极与透明导电电极层电连接。该阴极结构通过在内部设置半导体雪崩倍增层,实现对光电子的吸收和倍增,光电子从阴极逸出之前先经过P‑N结的雪崩增益放大从而改善成像的高量子产额和低信噪比,实现在较低照度下的较好成像效果。

主权项:1.一种具有光电子雪崩放大效应的光电阴极结构,其特征在于,包括:玻璃入射窗10、透明导电电极层20、半导体雪崩倍增层30、光电发射层40、偏置电压电源;玻璃入射窗10底面上设置透明导电电极层20,透明导电电极层20底面上设置半导体雪崩倍增层30,半导体雪崩倍增层30底面上设置光电发射层40;偏置电压电源正极与光电发射层40电连接;偏置电压电源的负极与透明导电电极层20电连接;雪崩倍增层30吸收穿过玻璃入射窗10、透明导电电极层20的入射光产生光电子-空穴对,雪崩二极管的反偏电压产生高电场,使光电子发射碰撞电离进行雪崩倍增得到倍增电子,倍增电子在电场作用下移动到光电发射层40,其中能量高于光电发射层40表面的具有超逸功的倍增电子在电场驱动下,从光电发射层40的发射层表面逸出用于光成像。

全文数据:

权利要求:

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