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申请/专利权人：北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
摘要：本申请提供了一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域。该制备方法包括：在衬底上依次形成栅极层、有源层和源漏导电层；形成第一掩膜层，第一掩膜层位于源漏导电层的远离衬底的一侧，第一掩膜层具有多个开口；经第一掩膜层的多个开口，刻蚀源漏导电层和有源层；去除第一掩膜层；依次形成钝化层和平坦化层，钝化层和平坦化层位于源漏导电层的远离衬底的一侧，平坦化层具有多个第一过孔；经平坦化层的多个第一过孔，刻蚀钝化层，该制备方法的工艺简单、成本较低。上述显示基板可应用于显示面板中，以实现画面显示。
主权项：1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底上依次形成栅极层、有源层和源漏导电层；形成第一掩膜层，所述第一掩膜层位于所述源漏导电层的远离所述衬底的一侧，所述第一掩膜层具有多个开口；经所述第一掩膜层的多个开口，刻蚀所述源漏导电层和所述有源层；去除所述第一掩膜层；依次形成钝化层和平坦化层，所述钝化层和所述平坦化层位于所述源漏导电层的远离所述衬底的一侧，所述平坦化层具有多个第一过孔；经所述平坦化层的多个第一过孔，刻蚀所述钝化层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京京东方光电科技有限公司 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置
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