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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：提供了一种小虚设栅极特征图案插入方法与应用此方法的集成电路。该方法包含以下步骤：识别一集成电路中的一第一智慧财产IP区块及一第二IP区块；识别该第一IP区块与该第二IP区块之间的一小边界区，其中该小边界区在一第一水平方向上具有一宽度，且该宽度在一小边界区尺寸下限与一小边界区尺寸上限之间；及将至少一个小虚设栅极特征图案插入于该小边界区中。
主权项：1.一种小虚设栅极特征图案插入方法，其特征在于，包括以下步骤：识别一集成电路中的一第一智慧财产区块及一第二智慧财产区块；识别该第一智慧财产区块与该第二智慧财产区块之间的一小边界区，其中该小边界区在一第一水平方向上具有一宽度，且该宽度在一小边界区尺寸下限与一小边界区尺寸上限之间；及将至少一个小虚设栅极特征图案插入于该小边界区中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 小虚设栅极特征图案插入方法与应用此方法的集成电路
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