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申请/专利权人：安徽立光电子材料股份有限公司
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射旋转阴极结构，所述结构包括结构主体，所述结构主体包括工艺气路，工艺气路包括主气管和多段辅助气管分段调节，所述结构主体还包括端头护罩、上端支撑护罩、靶材卡箍护罩，本方案采用分段布气，采用主气管和多段辅助气管分段调节，主气管量程1000sccm，通入50‑300sccm氩气，50‑300sccm氧气，通过质量流量计混合后进入真空箱体阴极靶位处，七段辅助气管通入氩气、氧气有效改善均匀性，辅助气管量程100sccm，通入0‑50sccm氩气、0‑50sccm氧气，依据测试均匀性结果分别调整通入气体量，有效改善均匀性。
主权项：1.一种磁控溅射旋转阴极结构，其特征在于，所述结构包括结构主体（1），所述结构主体（1）包括工艺气路（2），工艺气路（2）包括主气管和多段辅助气管分段调节，通过主气管工艺气管通入氩气和主氧气，通过多段辅助气管通入氩气和氧气。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安徽立光电子材料股份有限公司 一种磁控溅射旋转阴极结构
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