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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明描述了与自由基源相关的技术，该自由基源具有壳体，该壳体包括等离子体腔，该等离子体腔被设计为容纳由等离子体发生器产生的等离子体。该壳体具有至少一个气体喷射器，该至少一个气体喷射器被设计为将工艺气体喷射到该等离子体中。该等离子体由喷射到该等离子体中的气体产生自由基。该腔中形成有出口或开口，该出口或开口将这些自由基从该腔中喷出。所喷出的自由基可以被引导向自由基源下面的主体晶片衬底。提交了本摘要，应理解，本摘要将不会用于解释或限制权利要求的范围或含义。
主权项：1.一种自由基源，包括：等离子体发生器，该等离子体发生器用于产生等离子体；壳体，该壳体包含等离子体腔以用于在其中容纳所生成的等离子体，其中所述等离子体发生器定位在所述等离子体腔上方；气体喷射器，该气体喷射器用于在所述等离子体发生器下方的位置处将气体喷射到该等离子体腔中，使得通过所述气体喷射器喷射到所述等离子体腔中的气体有助于等离子体的旋涡围绕所述等离子体腔的同轴轴线的旋转，其中，该等离子体由该气体产生自由基；以及喷嘴，该喷嘴附接到该壳体或形成在该壳体中，该喷嘴在该等离子体腔中提供出口以从该等离子体腔喷出这些自由基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 含有等离子体的自由基源
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