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申请/专利权人：南开大学
摘要：一类具有巯基配体的金属氧簇化合物及其在制备光刻胶组合物中的新用途，该光刻胶组合物为负性光刻胶组合物，该组合物包括至少1种通式为[MxOyORmLn]的金属氧簇化合物，以及光刻胶溶剂；通式中M代表金属元素，O代表氧元素，R可以选自氢原子、烃基和酰基，L为具有巯基的有机配体，1≤x≤50，1≤y≤50，0≤m≤50，1≤n≤50。本发明所述的金属氧簇化合物分子量低、分子尺寸单一、对光刻曝光光源的灵敏度高，具有的巯基配体在光刻的曝光过程可以通过二硫键的生成使金属氧簇化合物相互交联达到高灵敏度和高分辨率的负性光刻效果。本发明还公开了包括上述具有巯基配体的金属氧簇化合物的制备方法、光刻胶组合物及其用于光刻的具体使用方法。
主权项：1.一类具有巯基配体的金属氧簇化合物，分子通式为[MxOyORmLn]，其中M代表金属元素，O代表氧元素，R选自氢原子、烃基或酰基中的一种，L为具有巯基的有机配体，1≤x≤50，1≤y≤50，0≤m≤50，1≤n≤50。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南开大学 一类具有巯基配体的金属氧簇化合物及其在制备光刻胶组合物中的新用途
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