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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：在一些示例中，晶片处理室中的喷头上方的成形的插件用于改变晶片处理区域附近的电场，且在一些示例中用于校正或改善QSM处理模块中的非对称性。在一些实施方案中，该插件可包含环形主体，该环形主体其上具有至少一个表面，该至少一个表面包含用于在被RF功率源供电时支持电磁耦合的材料，且该环形主体中的环带被设定尺寸以容纳该喷头的杆部。在一些示例中，选择该插件的配置以对使用中的该处理室内所产生的电磁场或等离子体的非对称性进行影响或校正。
主权项：1.一种用于处理室中的喷头插件，所述插件包含：主体，其被成形和配置以与所述处理室中的所述喷头相关联，所述主体其上具有至少一个表面，所述至少一个表面包含用于在被RF功率源供电时支持电磁耦合的材料；以及位于所述主体中的结构，所述结构被设定尺寸以容纳所述喷头的杆部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 用于均匀度调整的喷头插件
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