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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本申请公开一种清洗装置、半导体工艺设备及其清洗方法，属于半导体技术领域，清洗装置包括喷射管、至少一个喷头、支撑构件以及干冰气流源，至少一个喷头设置于喷射管，喷射管设置于支撑构件，喷射管可伸入半导体工艺设备的连通管内，干冰气流源与喷射管连通，用于向喷射管喷射携带干冰颗粒的气流，以使气流由喷头喷射至连通管的内壁面，以清洗连通管。半导体工艺设备包括工艺腔室、连通管和上述的清洗装置，工艺腔室背离连通管的一侧设有下盖，支撑构件可与下盖相连，以使喷射管伸入连通管内。半导体工艺设备的清洗方法包括：使喷射管伸入半导体工艺设备的连通管内；打开干冰气流源，以使气流通过喷射管的喷头喷向连通管的内壁面，以清洗连通管。
主权项：1.一种清洗装置，应用于半导体工艺设备，其特征在于，所述清洗装置包括喷射管100、至少一个喷头110、支撑构件200以及干冰气流源300，所述至少一个喷头110设置于所述喷射管100，所述喷射管100设置于所述支撑构件200，所述喷射管100可伸入所述半导体工艺设备的连通管600内，所述干冰气流源300的出口端与所述喷射管100连通，用于向所述喷射管100喷射携带有干冰颗粒的气流，以使所述气流由所述喷头110喷射至所述连通管600的内壁面，以清洗所述连通管600。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 清洗装置、半导体工艺设备及其清洗方法
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