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申请/专利权人：深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要：本实用新型公开了一种等离子体处理设备的承载传输机构，属于等离子体技术领域。本实用新型解决了现有技术中基片移入、等离子体处理中承载、移出过程繁琐且效率低和基片下表面被颗粒污染的问题。本实用新型包括开口、载体滑板、基片放置槽、吸尘孔和导气通道，载体滑板通过开口在反应腔内至反应腔外之间进行往复运动，基片放置槽设置于载体滑板上，基片放置槽上设置吸尘孔，吸尘孔与导气通道连通，导气通道设置于载体滑板内部。本实用新型中的载体滑板实现移入基片、承载基片进行等离子体处理、移出基片，操作简单且效率高。本实用新型设置吸尘孔和导气通道通过气体流动清理基片放置槽上和附近颗粒，避免基片放置槽上的颗粒污染下一片基片。
主权项：1.一种等离子体处理设备的承载传输机构，其特征在于，包括开口、载体滑板、基片放置槽、吸尘孔和导气通道；所述开口设置在所述等离子体处理设备的反应腔侧壁上，所述开口与所述载体滑板密封连接后形成密闭反应腔；所述载体滑板通过所述开口在所述反应腔内至所述反应腔外之间进行往复运动；所述基片放置槽设置在所述载体滑板上；所述基片放置槽上设置吸尘孔；所述吸尘孔与所述导气通道连通；所述导气通道设置在所述载体滑板内部。
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权利要求：
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