龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本实用新型提供了一种喷淋头及薄膜沉积装置。所述喷淋头包括：铝制的喷淋头主体，用于将含氟气体均匀喷洒到反应腔室内部，以对所述反应腔室进行清洁处理；以及氧化钇和氧化铝的混合涂层，覆盖所述喷淋头主体的表面，以防止所述气体在所述喷淋头表面生成氟铝化合物。基于上述设置，所示喷淋头可以改善喷淋头表面反射率，从而稳定离子体增强化学气相沉积反应过程中的沉积速率和刻蚀速率，以提高膜厚的均匀性和稳定性，节省预处理腔体的时间。
主权项：1.一种喷淋头，其特征在于，包括：铝制的喷淋头主体，用于将含氟气体均匀喷洒到反应腔室内部，以对所述反应腔室进行清洁处理；以及氧化钇和氧化铝的混合涂层，覆盖所述喷淋头主体的表面，以防止所述气体在所述喷淋头表面生成氟铝化合物。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 一种喷淋头及薄膜沉积装置
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号