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申请/专利权人：内蒙古大全半导体有限公司
摘要：本实用新型涉及多晶硅生产技术领域，且公开了一种气体置换还原炉，包括还原装置；所述还原装置包括：炉体顶部设置有管体，所述管体连接抽气泵和真空泵；氮气罐设置于所述炉体的一侧；氮气管连接所述氮气罐和所述抽气泵；电磁阀设置于所述管体和所述炉体之间；该还原炉，通过通过真空机组对还原炉内气体进行抽真空操作，以提高还原炉内真空度，达到完全置换气体的目的。抽真空置换法所需时间缩短20％～25％，还原炉内样品露点温度降低20℃～30℃，氧含量仅为压力循环置换法的1150，大大提高还原炉内气体置换效率及效果，并且连接管体还能得到固定，减少管体连接处所受到的压力。
主权项：1.一种气体置换还原炉，其特征在于：包括还原装置1；所述还原装置1包括：炉体11，其顶部设置有管体12，所述管体12连接抽气泵13和真空泵16；氮气罐14，设置于所述炉体11的一侧；氮气管141，连接所述氮气罐14和所述抽气泵13；电磁阀15，设置于所述管体12和所述炉体11之间。
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权利要求：
百度查询： 内蒙古大全半导体有限公司 一种气体置换还原炉
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